G5型

高效处理可燃气体及温室气体（PFCs气体）、燃烧式废气处理设备

燃烧式废气处理设备多气体批量处理高效处理 PFC 气体副产品计量/自动排粉功能运行成本低高正常运行时间根据气体种类和数量按需运行提高可维护性符合 CE 标志/SEMI-S2/NRTL 要求目录询问

产品介绍

G5型是燃烧式废气处理装置，可高效处理制造过程中使用的各种气体。它可以同时处理多种气体，从而能够高效处理通常难以处理的 PFC 气体。我们独特的副产品对策和根据所处理气体的类型和数量进行的按需（可变燃料供应）操作降低了运行成本。非常适合用于半导体、液晶板、太阳能电池、LED等电子元件制造企业、化学品和材料制造商以及各种实验室。我们还提供一系列大流量型号，最大流量为 1,200 L/min。

规格

模型单元G5-350 A1~A4/P1~P4G5-500 A1~A4/P1~P4G5-600 A1~A4/P1~P4G5-1200 A1~A4/P1~P4
加工方法燃烧式+湿式燃烧式+湿式燃烧式+湿式燃烧式+湿式
最大允许流入气体量升/分钟3505006001200
燃料可选择城市煤气或丙烷气可选择城市煤气或丙烷气可选择城市煤气或丙烷气可选择城市煤气或丙烷气
尺寸宽 x 深 x 高 毫米1,200 x 650 x 1,9001,200 x 650 x 1,9001,200 x 1,100 x 2,0001,200 x 1,100 x 2,200
可处理的气体示例工艺（沉积）气体
：SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等。
一般清洁气体
：NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等。
一般蚀刻气体：
HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。PFC ：
CF4
、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。		工艺（沉积）气体
：SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等。
一般清洁气体
：NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等。
一般蚀刻气体：
HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。PFC ：
CF4
、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。		工艺（沉积）气体
：SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等。
一般清洁气体
：NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等。
一般蚀刻气体：
HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。PFC ：
CF4
、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。		工艺（沉积）气体
：SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等。
一般清洁气体
：NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等。
一般蚀刻气体：
HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。PFC ：
CF4
、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。
标准设备燃烧器刮刀，用于清除粉末燃烧器刮刀，用于清除粉末燃烧器刮刀，用于清除粉末燃烧器刮刀，用于清除粉末
选项城市供水及污水处理使用量削减单位城市供水及污水处理使用量削减单位城市供水及污水处理使用量削减单位城市供水及污水处理使用量削减单位

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